1、行業(yè)定義

電子束曝光系統(tǒng)EBL，又稱電子束暴光系統(tǒng)，是一種利用電子束在工件面上掃描直接產(chǎn)生圖形的裝置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式與電子束曝光機(jī)十分相近，美國(guó)JC Nabity Lithography Systems公司是最早研發(fā)了基于改造商品SEM、STEM或FIB的電子束曝光裝置（Nanometer Pattern Generation System納米圖形發(fā)生系統(tǒng)，簡(jiǎn)稱NPGS，又稱電子束微影系統(tǒng)）。

2、研究結(jié)論

針對(duì)電子束曝光系統(tǒng)市場(chǎng)來(lái)講，中國(guó)的電子束曝光系統(tǒng)目前處于研發(fā)階段，并無(wú)商業(yè)化生產(chǎn)產(chǎn)品，產(chǎn)品主要依附于國(guó)外進(jìn)口。

據(jù)研究報(bào)告顯示，全球電子束曝光系統(tǒng)市場(chǎng)主要集中在美國(guó)，歐洲和日本，產(chǎn)量最大的6個(gè)公司為Raith，Vistec，JEOL，Elionix，Crestec，NanoBeam，全球6家電子束曝光系統(tǒng)生產(chǎn)企業(yè)占全球市場(chǎng)的80%，整個(gè)市場(chǎng)呈現(xiàn)寡頭多聚。

3、全球電子束曝光系統(tǒng)（EBL）市場(chǎng)主要企業(yè)名單及介紹

圖：全球市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要廠商2019年產(chǎn)值市場(chǎng)份額列表

3.1 Raith

Raith作為領(lǐng)先的納米加工領(lǐng)域的精密儀器制造商，產(chǎn)品覆蓋了電子束曝光機(jī)，聚焦離子束系統(tǒng)，納米工程和逆向工程應(yīng)用設(shè)備等。2016年Raith市場(chǎng)產(chǎn)值為0.38億美元。

3.2 Vistec

Vistec Electron Beam GmbH是設(shè)計(jì)和制造電子束光刻系統(tǒng)的領(lǐng)導(dǎo)者。該公司為主要的半導(dǎo)體制造商和Advanced Research提供系統(tǒng)。  2016年Vistec市場(chǎng)產(chǎn)值為0.25億美元。

3.3 JEOL

JEOL有限公司有四個(gè)業(yè)務(wù)部門，Electron Optics制造掃描電子顯微鏡，透射電子顯微鏡和掃描探針顯微鏡以及相關(guān)設(shè)備。“分析儀器”部分的產(chǎn)品包括質(zhì)譜儀，核磁共振和電子自旋共振設(shè)備。工業(yè)設(shè)備部門涵蓋了一系列專門針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的設(shè)備，例如電子束源，晶圓工藝監(jiān)控器和等離子槍系列。最后，醫(yī)療設(shè)備部門制造自動(dòng)分析設(shè)備，臨床診斷系統(tǒng)和氨基酸分析儀。2016年JEOL市場(chǎng)產(chǎn)值為0.18億美元。

3.4 Elionix 

Elionix具有電子束，離子束，光學(xué)和X射線應(yīng)用技術(shù)的系統(tǒng)和設(shè)備的研究，開(kāi)發(fā)，工程，制造，銷售和維護(hù)服務(wù)。2016年Elionix市場(chǎng)產(chǎn)值為0.14億美元。

3.5 Crestec

Crestec公司提供EB光刻的代工服務(wù)，其可以撰寫DFB-LD生產(chǎn)的精細(xì)光柵圖案，以及任何種類的研發(fā)圖案。有超過(guò)20年的電子束光刻經(jīng)驗(yàn)。2016年Crestec市場(chǎng)產(chǎn)值為0.04億美元。

3.6 NanoBeam

NanoBeam成立于2002年，致力于開(kāi)發(fā)和制造先進(jìn)的電子束光刻系統(tǒng)。所有員工都具有電子束系統(tǒng)的長(zhǎng)期經(jīng)驗(yàn)，并在該領(lǐng)域的多家公司工作過(guò)。2016年NanoBeam市場(chǎng)產(chǎn)值為0.03億美元。

4、電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)品分類及市場(chǎng)調(diào)研

高斯電子束曝光系統(tǒng)：2016年市場(chǎng)產(chǎn)值為0.9億美元，市場(chǎng)份額為71.93%

成型電子束曝光系統(tǒng)：2016年市場(chǎng)產(chǎn)值為0.35億美元，市場(chǎng)份額為28.07%

5、電子束曝光系統(tǒng)（EBL）應(yīng)用領(lǐng)域市場(chǎng)分析

學(xué)術(shù)領(lǐng)域：2019年市場(chǎng)份額為62%

工業(yè)領(lǐng)域：2019年市場(chǎng)份額為33.43%

圖：2019年全球市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要應(yīng)用領(lǐng)域消費(fèi)量市場(chǎng)份額

6、全球主要地區(qū)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）市場(chǎng)規(guī)模

圖：2018年全球主要地區(qū)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)值市場(chǎng)份額

6.1 美國(guó)

2018年美國(guó)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）市場(chǎng)產(chǎn)值為0.21億美元

圖：美國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）2014-2025年產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

6.2 歐洲

2018年歐洲電子束曝光系統(tǒng)（EBL）市場(chǎng)產(chǎn)值為0.67億美元

圖：歐洲市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）2014-2025年產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

6.3 日本

2018年日本電子束曝光系統(tǒng)（EBL）市場(chǎng)產(chǎn)值為0.4億美元

圖：日本市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）2014-2025年產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

第一章 行業(yè)概述及全球與中國(guó)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀

1.1 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）行業(yè)簡(jiǎn)介

1.1.1 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）行業(yè)界定及分類

1.1.2 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）行業(yè)特征

1.2 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)品主要分類

1.2.1 不同類型電子束曝光系統(tǒng)（EBL）增長(zhǎng)趨勢(shì)（2019-2025年）

1.2.2 高斯電子束曝光系統(tǒng)

1.2.3 成型電子束曝光系統(tǒng)

1.3 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要應(yīng)用領(lǐng)域分析

1.3.1 學(xué)術(shù)領(lǐng)域

1.3.2 工業(yè)領(lǐng)域

1.4 全球與中國(guó)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀對(duì)比

1.4.1 全球市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀及未來(lái)趨勢(shì)（2014-2025年）

1.4.2 中國(guó)生產(chǎn)發(fā)展現(xiàn)狀及未來(lái)趨勢(shì)（2014-2025年）

1.5 全球電子束曝光系統(tǒng)（EBL）供需現(xiàn)狀及預(yù)測(cè)（2014-2025年）

1.5.2 全球電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)量、表觀消費(fèi)量及發(fā)展趨勢(shì)（2014-2025年）

1.5.3 全球電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)量、市場(chǎng)需求量及發(fā)展趨勢(shì)（2014-2025年）

1.6 中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）供需現(xiàn)狀及預(yù)測(cè)（2014-2025年）

1.6.3 中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)量、市場(chǎng)需求量及發(fā)展趨勢(shì)（2014-2025年）

1.7 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）中國(guó)及歐美日等行業(yè)政策分析

第二章 全球與中國(guó)主要廠商電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)量、產(chǎn)值及競(jìng)爭(zhēng)分析

2.1 全球市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要廠商2017-2019年產(chǎn)量、產(chǎn)值及市場(chǎng)份額

2.1.1 全球市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要廠商2017-2019年產(chǎn)量列表

2.1.2 全球市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要廠商2017-2019年產(chǎn)值列表

2.1.3 全球市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要廠商2017-2019年產(chǎn)品價(jià)格列表

2.2 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）廠商產(chǎn)地分布

2.3 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）行業(yè)集中度、競(jìng)爭(zhēng)程度分析

2.3.1 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）行業(yè)集中度分析

2.3.2 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)程度分析

2.4 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）全球領(lǐng)先企業(yè)SWOT分析

第三章 從生產(chǎn)角度分析全球主要地區(qū)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)量、產(chǎn)值、市場(chǎng)份額、增長(zhǎng)率及發(fā)展趨勢(shì)

3.1 全球主要地區(qū)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)量、產(chǎn)值及市場(chǎng)份額（2014-2025年）

3.1.1 全球主要地區(qū)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)量及市場(chǎng)份額（2014-2025年）

3.1.2 全球主要地區(qū)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)值及市場(chǎng)份額（2014-2025年）

3.2 美國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）2014-2025年產(chǎn)量、產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

3.3 歐洲市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）2014-2025年產(chǎn)量、產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

3.4 日本市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）2014-2025年產(chǎn)量、產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

第四章 從消費(fèi)角度分析全球主要地區(qū)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）消費(fèi)量、市場(chǎng)份額及發(fā)展趨勢(shì)

4.1 全球主要地區(qū)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）消費(fèi)量、市場(chǎng)份額及發(fā)展預(yù)測(cè)（2014-2025年）

4.2 中國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）消費(fèi)量、增長(zhǎng)率及發(fā)展預(yù)測(cè)（2014-2025年）

4.3 美國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）消費(fèi)量、增長(zhǎng)率及發(fā)展預(yù)測(cè)（2014-2025年）

4.4 歐洲市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）消費(fèi)量、增長(zhǎng)率及發(fā)展預(yù)測(cè)（2014-2025年）

4.5 日本市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）消費(fèi)量、增長(zhǎng)率及發(fā)展預(yù)測(cè)（2014-2025年）

第五章 全球與中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要生產(chǎn)商分析

5.1 Raith

5.1.1 Raith基本信息介紹、生產(chǎn)基地、銷售區(qū)域、競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手及市場(chǎng)地位

5.1.2 Raith電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)品規(guī)格、參數(shù)及特點(diǎn)

5.1.3 Raith電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)能、產(chǎn)量、產(chǎn)值、價(jià)格及毛利率（2014-2019年）

5.1.4 Raith主營(yíng)業(yè)務(wù)介紹

5.2 Vistec

5.2.1 Vistec基本信息介紹、生產(chǎn)基地、銷售區(qū)域、競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手及市場(chǎng)地位

5.2.2 Vistec電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)品規(guī)格、參數(shù)及特點(diǎn)

5.2.3 Vistec電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)能、產(chǎn)量、產(chǎn)值、價(jià)格及毛利率（2014-2019年）

5.2.4 Vistec主營(yíng)業(yè)務(wù)介紹

5.3 JEOL

5.3.1 JEOL基本信息介紹、生產(chǎn)基地、銷售區(qū)域、競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手及市場(chǎng)地位

5.3.2 JEOL電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)品規(guī)格、參數(shù)及特點(diǎn)

5.3.3 JEOL電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)能、產(chǎn)量、產(chǎn)值、價(jià)格及毛利率（2014-2019年）

5.3.4 JEOL主營(yíng)業(yè)務(wù)介紹

5.4 Elionix

5.4.1 Elionix基本信息介紹、生產(chǎn)基地、銷售區(qū)域、競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手及市場(chǎng)地位

5.4.2 Elionix電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)品規(guī)格、參數(shù)及特點(diǎn)

5.4.3 Elionix電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)能、產(chǎn)量、產(chǎn)值、價(jià)格及毛利率（2014-2019年）

5.4.4 Elionix主營(yíng)業(yè)務(wù)介紹

5.5 Crestec

5.5.1 Crestec基本信息介紹、生產(chǎn)基地、銷售區(qū)域、競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手及市場(chǎng)地位

5.5.2 Crestec電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)品規(guī)格、參數(shù)及特點(diǎn)

5.5.3 Crestec電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)能、產(chǎn)量、產(chǎn)值、價(jià)格及毛利率（2014-2019年）

5.5.4 Crestec主營(yíng)業(yè)務(wù)介紹

5.6 NanoBeam

5.6.1 NanoBeam基本信息介紹、生產(chǎn)基地、銷售區(qū)域、競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手及市場(chǎng)地位

5.6.2 NanoBeam電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)品規(guī)格、參數(shù)及特點(diǎn)

5.6.3 NanoBeam電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)能、產(chǎn)量、產(chǎn)值、價(jià)格及毛利率（2014-2019年）

5.6.4 NanoBeam主營(yíng)業(yè)務(wù)介紹

第六章 不同類型電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)量、價(jià)格、產(chǎn)值及市場(chǎng)份額

6.1 全球市場(chǎng)不同類型電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)量、產(chǎn)值及市場(chǎng)份額

6.1.1 全球市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）不同類型電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)量及市場(chǎng)份額（2014-2025年）

6.1.2 全球市場(chǎng)不同類型電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)值、市場(chǎng)份額（2014-2025年）

6.1.3 全球市場(chǎng)不同類型電子束曝光系統(tǒng)（EBL）價(jià)格走勢(shì)（2014-2025年）

6.2 中國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要分類產(chǎn)量、產(chǎn)值及市場(chǎng)份額

6.2.1 中國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要分類產(chǎn)量及市場(chǎng)份額及（2014-2025年）

第七章 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）上游原料及下游主要應(yīng)用領(lǐng)域分析

7.1 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)業(yè)鏈分析

7.2 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)業(yè)上游供應(yīng)分析

7.2.1 上游原料供給狀況

7.2.2 原料供應(yīng)商及聯(lián)系方式

7.3 全球市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）下游主要應(yīng)用領(lǐng)域消費(fèi)量、市場(chǎng)份額及增長(zhǎng)率（2014-2025年）

7.4 中國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要應(yīng)用領(lǐng)域消費(fèi)量、市場(chǎng)份額及增長(zhǎng)率（2014-2025年）

第八章 中國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)量、消費(fèi)量、進(jìn)出口分析及未來(lái)趨勢(shì)（2014-2025年）

8.1 中國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）產(chǎn)量、消費(fèi)量、進(jìn)出口分析及未來(lái)趨勢(shì)（2014-2025年）

8.2 中國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）進(jìn)出口貿(mào)易趨勢(shì)

8.3 中國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要進(jìn)口來(lái)源

8.4 中國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要出口目的地

8.5 中國(guó)市場(chǎng)未來(lái)發(fā)展的有利因素、不利因素分析

第九章 中國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）主要地區(qū)分布

9.1 中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）消費(fèi)地區(qū)分布

第十章 影響中國(guó)市場(chǎng)供需的主要因素分析

10.1 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）技術(shù)及相關(guān)行業(yè)技術(shù)發(fā)展

10.2 進(jìn)出口貿(mào)易現(xiàn)狀及趨勢(shì)

10.3 下游行業(yè)需求變化因素

10.4市場(chǎng)大環(huán)境影響因素

10.4.1中國(guó)及歐美日等整體經(jīng)濟(jì)發(fā)展現(xiàn)狀

10.4.2國(guó)際貿(mào)易環(huán)境、政策等因素

第十一章 未來(lái)行業(yè)、產(chǎn)品及技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)

11.1 行業(yè)及市場(chǎng)環(huán)境發(fā)展趨勢(shì)

11.2 產(chǎn)品及技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)

11.3 產(chǎn)品價(jià)格走勢(shì)

11.4 未來(lái)市場(chǎng)消費(fèi)形態(tài)

第十二章 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）銷售渠道分析及建議

12.1 國(guó)內(nèi)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）銷售渠道

12.1.1直接銷售

12.1.2間接銷售

12.2 企業(yè)海外電子束曝光系統(tǒng)（EBL）銷售渠道

12.3 電子束曝光系統(tǒng)（EBL）銷售/營(yíng)銷策略建議

第十三章 研究成果及結(jié)論