電子束曝光系統(tǒng)EBL，又稱電子束暴光系統(tǒng)是一種利用電子束在工件面上掃描直接產(chǎn)生圖形的裝置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式與電子束曝光機(jī)十分相近，美國(guó)JC Nabity Lithography Systems公司是最早研發(fā)了基于改造商品SEM、STEM或FIB的電子束曝光裝置（Nanometer Pattern Generation System納米圖形發(fā)生系統(tǒng)，簡(jiǎn)稱NPGS，又稱電子束微影系統(tǒng)）。2019年，全球電子束曝光系統(tǒng) (EBL)市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到了11億元。

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