光刻材料是指在光刻工藝過程中使用的一系列材料，它們共同協(xié)作以完成芯片制造中的關鍵步驟，光刻是半導體芯片生產(chǎn)流程中最復雜、最關鍵的工藝之一，它通過將設計好的圖案轉(zhuǎn)移到芯片表面，以形成所需的電路和功能區(qū)域。

調(diào)研報告指出，全球光刻材料市場規(guī)模持續(xù)增長，特別是隨著半導體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展和晶圓廠產(chǎn)能的擴張，對光刻材料的需求不斷增加，根據(jù)市場預測，未來幾年全球光刻材料市場將保持快速增長的態(tài)勢。從細分領域來看，半導體光刻膠占據(jù)市場的主要份額，且隨著半導體工藝節(jié)點的不斷縮小，對高端光刻膠的需求將進一步增加，同時，LCD光刻膠和PCB光刻膠也在各自領域占據(jù)一定的市場份額。

全球光刻材料市場高度集中，核心技術(shù)主要掌握在日、美等國際大公司手中，例如，東京應化（TOK）、JSR、信越化學、杜邦等公司在光刻膠領域具有世界領先的技術(shù)和市場份額，這些公司通過不斷的技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品升級，鞏固了其在全球市場的領先地位。

中國光刻材料市場起步較晚，但是近年來發(fā)展迅速，國內(nèi)企業(yè)在中低端光刻膠市場占有一定的份額，并正在積極研發(fā)半導體光刻膠等高端產(chǎn)品，例如，南大光電、晶瑞電材等國內(nèi)企業(yè)已在半導體光刻膠領域取得重要突破，部分產(chǎn)品已實現(xiàn)量產(chǎn)或進入小批量供貨階段。

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