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概述
調(diào)研大綱

晶圓清洗系統(tǒng)的消費(fèi)量與下游產(chǎn)業(yè)和全球經(jīng)濟(jì)有關(guān),由于未來幾年全球經(jīng)濟(jì)將始終存在一些不確定性,晶圓清洗系統(tǒng)行業(yè)的增長(zhǎng)率可能會(huì)保持如此之快。但可以肯定的是,晶圓清洗系統(tǒng)的市場(chǎng)仍然很有前景。

1、全球晶圓清洗系統(tǒng)市場(chǎng)銷售量

2021年全球晶圓清洗系統(tǒng)市場(chǎng)銷售量為960臺(tái)

圖:2021-2026年全球晶圓清洗系統(tǒng)銷售量(單位)及增長(zhǎng)率

2021-2026年全球晶圓清洗系統(tǒng)銷售量(單位)及增長(zhǎng)率

2、全球晶圓清洗系統(tǒng)市場(chǎng)價(jià)格趨勢(shì)

圖:2021-2026年世界價(jià)格(千美元/單位)趨勢(shì)

2021-2026年世界價(jià)格(千美元/單位)趨勢(shì)

3、技術(shù)和機(jī)會(huì)

微電子元件的低生產(chǎn)成本意味著手機(jī)和其他電子設(shè)備是生活中不可分割的一部分。此類器件的關(guān)鍵是半導(dǎo)體晶片,必須清潔無污染;然而,對(duì)這種清潔的需求和該行業(yè)的快速擴(kuò)張可能會(huì)對(duì)環(huán)境產(chǎn)生毀滅性的影響。

半導(dǎo)體元件中污染物的去除

工業(yè)需要一種有效和高效的工藝,在不損壞晶片的情況下從半導(dǎo)體元件中去除污染物和雜質(zhì)——堿、金屬、重金屬、有機(jī)污染物、摻雜劑。如果不去除它們,晶片的性能和功能可能會(huì)受到影響。

因此,半導(dǎo)體晶片的清潔是電子產(chǎn)品生產(chǎn)中的一個(gè)重要階段,預(yù)計(jì)到2024年將增長(zhǎng)到68億美元。使用基于濕化學(xué)的清潔技術(shù)和蝕刻清潔技術(shù)清潔半導(dǎo)體晶片有各種方法,步驟可能包括預(yù)擴(kuò)散清潔、顆粒去除、金屬離子去除、薄膜去除和蝕刻后清潔。

半導(dǎo)體晶片清洗對(duì)環(huán)境的影響

一種流行的基于濕化學(xué)的技術(shù)是旋轉(zhuǎn)晶片蝕刻清潔,它使用化學(xué)工藝去除污染物。一次處理一個(gè)晶片變得越來越普遍,需要用氫氟酸和臭氧水處理每個(gè)晶片。氫氟酸具有高度腐蝕性,可以溶解許多材料,包括玻璃。它也是一種急性毒藥,會(huì)立即對(duì)肺部和角膜造成不可逆的損傷,并會(huì)干擾身體的鈣代謝,導(dǎo)致全身毒性、心臟驟停和死亡。臭氧水具有消毒劑的作用,是一種用途廣泛的強(qiáng)效消毒劑。

使用此類化學(xué)物質(zhì)可能非常危險(xiǎn)——如果手動(dòng)清潔晶圓,則需要兩個(gè)人始終在場(chǎng);不過,值得慶幸的是,這些過程是自動(dòng)化的,由機(jī)器執(zhí)行。

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